2015年5月5日星期二

缠绕钨丝CVD钨管X射线衍射结构分析

缠绕钨丝CVD钨管和末缠钨丝CVD钨管分别进行X射线衍射结构分析,X射线谱图如图所示缠绕钨丝后,(110)和(211)两个晶面衍射强度相对减小,(200)晶面衍射强度相对增大。钨沉积层织构系数(T.C.)计算结果见表。

可见,缠绕钨丝后,CVD钨在(110)和(211)两个晶面上已经不存在织构,只在(200)面上有较小的织构,与不缠钨丝相比,CVD钨的生长方向发生了明显的变化。

X射线谱图
钨沉积层织构系数表


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