2014年4月29日星期二

钨丝微电极阵列制作的模具制作方法

钨丝微电极阵列制作的模具制作:模具制作采用镀铬石英玻璃。制备工艺如下(如下图所示):

(a)在镀铬玻璃上旋涂一层光刻胶,并用光刻技术在光刻胶表面形成模具结构图形;

(b)利用铬腐蚀液将没有光刻胶保护部位的铬除去,直至露出玻璃表面,将结构图形从光刻胶转移到铬层上,铬腐蚀液为含有醋酸的硝酸铰饰((NH4)2Ce(NO3)6溶液,成分比例为每50ml水中含有1.78ml醋酸和10g硝酸铰饰;

(c)利用氢氟酸、过氧化氢和醋酸的混合溶液(HF:H202:CH3COOH=2:1:1)溶液在40℃水浴环境下进行石英玻璃腐蚀,最后除去所有铬层得到石英玻璃模具。最后得到玻璃模具的微结构包括:

(a)一系列宽120μm,深100μm的平行沟槽,沟槽间距为400μm;
(b)两条与上述沟槽垂直的电化学腐蚀竹道;
(c)一系列3mm × 3mm,深度为100μm的四坑。如图3(a)。玻璃模具的微结构决定了最后微电极的儿何尺寸,只需要相应的改变玻璃模具的结构参数,就可以改变微电极电极轴的间距,微电极固定座等儿何参数。


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